Häufig gestellte Fragen

Customized vacuum coating solutions successfully overcome adhesion issues, film oxidation discoloration, and thickness non-uniformity in thick film preparation

Als führendes Hightech-Unternehmen, das auf Vakuumbeschichtung und Materialwissenschaftsgeräte spezialisiert ist, hat Vision Precision Instruments (VPI) die Hochvakuum-Magnetron-Sputtersysteme der Serie SD-650 eingeführt und damit der Forschung und Entwicklung im Bereich fortschrittlicher Energiematerialien einen starken Impuls gegeben.

Magnetronsputtern und thermisches Verdampfen sind weit verbreitete PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) für die Dünnschichtbeschichtung. Obwohl beide Verfahren ähnliche Materialien beschichten können (wie Kohlenstofftargets beim Sputtern und Kohlenstoffstäbe beim Verdampfen), bietet jedes Verfahren einzigartige Vorteile in der Halbleiter- und Optikanwendung. Hier vergleichen wir die beiden Verfahren anhand des Magnetronsputters VPI SD-650MH und des Hochvakuum-Thermoverdampfers SD-100AF von Vision Precision Instruments, um Ihnen bei der Wahl des optimalen Verfahrens für Ihre spezifischen Anforderungen zu helfen.

Elektronenmikroskope (EM) sind wichtige Werkzeuge zur Erforschung von Mikro- und Nanostrukturen. Um hochauflösende und klare Bilder von Proben unter verschiedenen Elektronenmikroskopen zu gewährleisten, müssen leitfähige Dünnschichten auf der Probenoberfläche präpariert werden. Die Auswahl und Vorbereitung der Zielmaterialien für die Schicht wirken sich direkt auf die Bildqualität aus. Daher ist es wichtig, die Eigenschaften und die geeigneten Anwendungen verschiedener Materialien (Zielmaterialien) zu verstehen.

In Hochvakuum-Sputterbeschichtungsanlagen (Sputtercoater der VPI 650MH-Serie) ist die Kontrolle des Gasflusses entscheidend für die Stabilität des Sputterprozesses. Gängige Gasflussregelgeräte sind elektromagnetische Durchflussventile (EM) und Massendurchflussregler (MFC). Sie haben unterschiedliche Funktionsprinzipien und Anwendungsszenarien. Welches ist also die richtige Wahl?

Frohes chinesisches Neujahr! VPI läutet gemeinsam mit Ihnen ein neues Kapitel im Jahr der Schlange ein! 🎉🐍

Vielen Dank für Ihr Vertrauen und Ihre Unterstützung. Lassen Sie uns gemeinsam auf ein noch brillanteres Jahr 2025 zugehen!

Zum Jahreswechsel hat VPI einen Kalender für 2025 entworfen, um Ihnen für Ihre anhaltende Unterstützung und Ihr Vertrauen zu danken. Ob in der Hochvakuumbeschichtung, der Probenvorbereitung, bei Verbrauchsmaterialien und Zubehör oder bei kundenspezifischen Beschaffungsdienstleistungen – Ihr Vertrauen war in den letzten 20 Jahren stets unsere treibende Kraft für kontinuierliche Verbesserungen.

Beim Einsatz der Hochvakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsgeräte von VPI sind Sputtertargets wesentliche Komponenten für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten. Um die Stabilität und Effizienz des Sputterprozesses zu gewährleisten, müssen Targets jedoch in der Regel mit Trägerplatten ausgestattet werden. Warum benötigen Targets Trägerplatten? Welche Rolle spielen Trägerplatten beim Sputtern? Ingenieur Li von VPI gibt eine kurze technische Erklärung.

Abschätzung der Filmdicke des Coaters der VPI-Serie

In der modernen industriellen Fertigung wird die Dünnschichttechnologie häufig in Halbleitern, optischen Geräten, dekorativen Beschichtungen und anderen Bereichen eingesetzt. Die Dicke der Dünnschicht wirkt sich direkt auf die Leistung und Qualität des Produkts aus. Daher ist die Echtzeitüberwachung der Schichtdicke während des Beschichtungsprozesses von entscheidender Bedeutung. Die Forschungs- und Entwicklungsingenieure von VPI werden darlegen, warum Beschichtungsgeräte mit einem Schichtdickenmonitor ausgestattet sein müssen, und dessen Funktionsprinzip erklären. Dabei konzentrieren sie sich auf die Anwendungen der Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine 650MH und der Beschichtungsmaschine zur Probenvorbereitung 900M.

In den Bereichen Materialwissenschaft und Werkstofftechnik ist die Dünnschichtherstellung ein entscheidender Schritt. Die genaue Kontrolle der Dünnschichtdicke ist für die Gewährleistung von Produktleistung und -qualität von entscheidender Bedeutung. Dieser Artikel stellt vor, wie man die Schichtdicke schätzt und die spezifische Berechnungslogik bei der Verwendung einer Beschichtungsmaschine zur Probenherstellung verwendet, und hilft Forschern und Ingenieuren, die experimentelle Effizienz und Ergebniszuverlässigkeit zu verbessern.

Kürzlich hatte Vision Precision Instruments die Gelegenheit, einen Hochvakuum-Magnetron-Doppeltarget-Sputtercoater (SD-650MHT) für die School of Chemical Engineering der Changchun University of Technology zu installieren und einzusetzen. Es ist uns eine Ehre, einen Beitrag zur Materialwissenschaftsforschung an der Changchun University of Technology leisten zu können.

Als Schlüsselparameter, der die Qualität, Dickengleichmäßigkeit und Leistung des Films beeinflusst, wird die Sputterrate von vielen Faktoren beeinflusst, darunter Targettyp, Vakuumgrad, Arbeitsgasdruck, Stromversorgung, magnetische Feldstärke usw. Ein gründliches Verständnis des Einflusses dieser Faktoren auf die Sputterrate ist von großer Bedeutung für die Optimierung der Prozessparameter und die Verbesserung der Qualität des Films.

Im Bereich der modernen Materialwissenschaft und Nanotechnologie ist die Probenvorbereitungstechnologie für Dünnschichten zu einem zentralen Forschungsthema geworden. Diese Dünnschichtmaterialien werden häufig in elektronischen Geräten, optischen Geräten, Biosensoren, Katalysatoren und anderen Bereichen eingesetzt. Um Filme mit hervorragenden Eigenschaften für verschiedene Anwendungen zu erhalten, ist es wichtig, das geeignete Zielmaterial auszuwählen und Hochleistungsbeschichtungsgeräte zu verwenden. In diesem Artikel werden die Anwendung von Gold- (Au), Silber- (Ag), Platin- (Pt) und Gold-Palladium- (Au/Pd) Zielen in den Beschichtungsanlagen des Modells SD-900M von VPI und ihre Unterschiede bei der Probenvorbereitung ausführlich beschrieben.

Die Sputterbeschichtungsmaschine SD-650MHT verfügt über ein fortschrittliches mechanisches Design und präzise Steuerungssysteme und zeichnet sich durch extrem hohe Vakuumniveaus und stabile Gaskontrollfunktionen aus. Zu ihren Kernkomponenten gehört eine Kombination aus einer Rotationsvakuumpumpe und einer Turbomolekularpumpe, die schnell ein Endvakuum von 5×10^-5Pa erreichen kann und so eine hohe Effizienz und Stabilität während des Beschichtungsprozesses gewährleistet. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Metallkammer mit einem Durchmesser von 260 mm und einer Höhe von 200 mm ausgestattet, die größere Probengrößen ermöglicht und verschiedene experimentelle Anforderungen erfüllt.

Heute sind wir stolz, die Markteinführung eines neuen Kathodolumineszenz-Instruments bekannt zu geben: ein Präzisionsinstrument, das speziell für die Charakterisierung fester Materialien wie Edelsteine und Mineralien entwickelt wurde und das darauf abzielt, weitere Lösungen für den Bereich der Materialwissenschaften zu liefern.

Viel Glück im Jahr des Drachen! Möge alles nach Ihren Wünschen verlaufen und Sie mögen Seelenfrieden und Gesundheit genießen!

Frohes Neues Jahr!!

Frohe Weihnachten von VPI China