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Einheitlichkeit der Dickenabscheidung

Einführung

Die Magnetron-Sputter-Beschichtung wird in großem Umfang bei der großflächigen Abscheidung angewendet, und der Gleichmäßigkeit der Dünnschichtdicke, dem Abscheidungsverhältnis, dem Ausnutzungsverhältnis des Zielmaterials und anderen Problemen in der Beschichtungsindustrie wird große Aufmerksamkeit geschenkt.

 

Ob es darum geht, einen Halbleiterchip mit einem dünnen Schutzfilm zu beschichten oder eine Antireflexbeschichtung auf ein Brillenglas aufzubringen, Prozessingenieure müssen bestimmte Dickenspezifikationen erfüllen, um die Leistungsanforderungen zu erfüllen. Ebenso wichtig wie die Filmdicke selbst ist die Gleichmäßigkeit der Dicke.

Graphene

Faktoren, die die Abscheidungsleistung bestimmen

Die Abscheidung, ein Prozess zur Abscheidung dünner Materialschichten (oder Filme) auf einem Substrat, ist eine gängige Praxis in Branchen wie der Halbleiter- und Nanotechnologie. Die Dünnfilmabscheidung kann mit einer Vielzahl von Technologien erreicht werden, die Filme bereitstellen können, die von Isolatoren über Halbleiter bis hin zu Metallen reichen. Die Filme können ebenso unterschiedliche Rollen erfüllen, die von Zwischenschichtdielektrika bis hin zu Zwischenverbindungen reichen.

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