top of page

אחידות בתצהיר עובי

מבוא

ציפוי מקרטעת Magnetron מיושם באופן נרחב בתצהיר שטח גדול, ואחידות עובי הסרט הדק, יחס התצהיר, יחס הניצול של חומר היעד ובעיות אחרות בתעשיית הציפוי מקבלים תשומת לב רבה.

 

בין אם מדובר בציפוי שבב מוליכים למחצה בסרט דק מגן או מריחת ציפוי אנטי-רפלקטיבי על עדשת משקפיים, מהנדסי תהליכים צריכים להשיג מפרטי עובי מסוימים כדי לעמוד בדרישות הביצועים. לא פחות חשובה כמו עובי הסרט עצמו היא אחידות העובי.

Column 650MH High Vacuum Magnetron Sputtering Coater

גורמים הקובעים את ביצועי התצהיר

שיקוע, תהליך המשמש להפקדת שכבות דקות של חומר (או סרט) על גבי מצע, הוא נוהג נפוץ בתעשיות כמו מוליכים למחצה וננוטכנולוגיה. ניתן להשיג שקיעת סרט דק עם מגוון טכנולוגיות שיכולות לספק סרטים החל ממבודדים, מוליכים למחצה ועד מתכות. הסרטים יכולים לשרת תפקידים מגוונים באותה מידה שנעים בין דיאלקטריות בין-שכבות לחיבורים.

Column VPI SD-900M

גמישות

גמישות, טווח היכולות שיש למערכת, עשויה להיות גורם משמעותי בקבלת ההחלטה איזה סוג של מערכת הפקדה לרכוש. זה נכון יותר עבור סביבות מו"פ ולא יישומים תעשייתיים שבהם פתרונות ספציפיים מועדפים לעתים קרובות. הבנת החומרים שניתן להפקיד, גדלי מצע, טווחי טמפרטורות, שטף יונים, קצבי שיקוע, תדרים, נקודת קצה ומשטר פעולת לחץ הם רק חלק מהשיקולים. גמישות היא גם איכות מערכת המאפשרת תכנון לעתיד. במו"פ משתנה סדרי העדיפויות וזה שימושי שתהיה מערכת שיכולה להתמודד עם השינויים האלה. על השיקול הזה מונח תקציב. בהתאם לסוג האפשרויות הטכנולוגיות, מערכות עשויות להשתנות במחיר באופן משמעותי.

דוח בדיקה עבור דגם ציפוי VPI:SD-900M

תמונת צד שמאל

Results & Conclusions

Shows the result of the X-ray diffraction of the Ga2O3 films growth with various O2 flow rates. The diffraction peaks located at 29.7°, 37.6°, and 58.4° originate from the 400, 402, and 603 of the β-Ga2O3, respectively. For the sample without the O2 flow rate, 400, 402, and 603 of the β-Ga2O3 diffraction peak coexisted; this suggests that the sample was polycrystalline. With the O2 flow rate increased from 0 to 4 sccm, the diffraction peak intensity of the 400 β-Ga2O3 decreased, while the intensity of both the 402 and 603 of β-Ga2O3 diffraction peak increased. Both of these two diffractions belong to the 201 plane family of the monoclinic Ga2O3. The above result illustrates that highly 201-textured β-Ga2O3 samples have been prepared and the orientation of crystal is gradually enhanced when oxygen flow increased. Furthermore, the full width at half maximum (FWHM) values of the 402 β-Ga2O3 peaks are 1.00°, 1.10°, 1.06°, and 0.96° for samples with the O2 flow rate increased from 0 to 4 sccm, respectively. The FWHM value is dependent on the O2 flow rate, and the results suggest a higher O2 flow rate results in improved crystal quality. The minimal FWHM is obtained at 4 sccm of the O2 flow rate, which means the grain size is the largest. The combined results of the XRD peak intensity and the FWHM value of the samples show that higher O2 flow rates lead to better quality.

 

In summary, in terms of the effect of oxygen flow on the structure, optical l properties of the Ga2O3 films have been investigated by XRD, EDX, AFM, transmission spectra, and PL spectra. With the increase in the oxygen flow rate, both the crystal quality and luminescence intensity of the sample first decreased and then enhanced. All these observations suggested that the reduction in the oxygen defect density is responsible for the improvement in the crystal quality and emission intensity of the material, however, there have been no reports about O2 flow rate on the properties of the Ga2O3 growth by RF magnetron sputtering. Our results were similar to those obtained by other techniques and the specific control of various experimental operating parameters. Vu found that the performance of β-Ga2O3-based photodetectors with a higher oxygen partial are better than those prepared at lower oxygen pressures. Wang et al. studied the influence of oxygen flow ratio on the performance of Sn-doped Ga2O3 films by RF magnetron sputtering; they found the sample with higher oxygen flow ratio displays an enhanced performance. Shen’s study revealed oxygen annealing will enhance the performance of β-Ga2O3 solar-blind photodetectors grown by ion-cutting process. Our results demonstrated that high-quality gallium oxide materials can be obtained by adjusting the oxygen flow rate.

bottom of page