Keseragaman Deposisi Ketebalan
pengantar
Pelapisan magnetron sputtering diterapkan secara luas dalam pengendapan area yang luas, dan keseragaman ketebalan film tipis, rasio pengendapan, rasio pemanfaatan bahan target dan masalah lain dalam industri pelapisan mendapat perhatian besar.
Baik itu melapisi chip semikonduktor dengan film tipis pelindung atau menerapkan lapisan anti-reflektif pada lensa kacamata, teknisi proses harus mencapai spesifikasi ketebalan tertentu untuk memenuhi persyaratan kinerja. Sama pentingnya dengan ketebalan film itu sendiri adalah keseragaman ketebalan.
Faktor-faktor yang Menentukan Kinerja Deposisi
Deposisi, proses yang digunakan untuk menyimpan lapisan tipis material (atau film) ke substrat, adalah praktik umum di industri seperti semikonduktor dan nanoteknologi. Deposisi film tipis dapat dicapai dengan berbagai teknologi yang dapat menyediakan film mulai dari isolator hingga semikonduktor hingga logam. Film-film tersebut dapat melayani peran yang sama beragamnya mulai dari dielektrik interlayer hingga interkoneksi.
High quality ITO thin films grown by dc and RF sputtering without oxygen
Fleksibilitas, kisaran kemampuan yang dimiliki suatu sistem, mungkin merupakan faktor penting dalam membuat keputusan tentang jenis sistem pengendapan yang akan diperoleh. Ini lebih benar untuk lingkungan Litbang daripada aplikasi industri di mana solusi spesifik sering lebih disukai. Memahami bahan yang dapat diendapkan, ukuran substrat, rentang temperatur, fluks ion, laju deposisi, frekuensi, titik akhir, dan rezim operasi tekanan hanyalah beberapa pertimbangan. Fleksibilitas juga merupakan kualitas sistem yang memungkinkan perencanaan untuk masa depan. Dalam R&D, prioritas berubah dan berguna untuk memiliki sistem yang dapat menangani perubahan tersebut. Berlapis di atas pertimbangan ini adalah anggaran. Bergantung pada jenis opsi teknologi, harga sistem dapat bervariasi secara signifikan.
Laporan Uji untuk Model pelapis VPI:SD-900M
Gambar Samping Kiri