Uniformidade de Deposição de Espessura
Introdução
O revestimento por pulverização catódica magnética é amplamente aplicado na deposição de grandes áreas, e a uniformidade da espessura do filme fino, taxa de deposição, taxa de utilização do material alvo e outros problemas na indústria de revestimento recebem grande atenção.
Seja revestindo um chip semicondutor com uma película fina protetora ou aplicando um revestimento antirreflexo a uma lente de óculos, os engenheiros de processo precisam atingir certas especificações de espessura para atender aos requisitos de desempenho. Tão importante quanto a própria espessura do filme é a uniformidade da espessura.
Fatores que determinam o desempenho da deposição
A deposição, um processo usado para depositar camadas finas de material (ou filme) sobre um substrato, é uma prática comum em indústrias como semicondutores e nanotecnologia. A deposição de filmes finos pode ser obtida com uma variedade de tecnologias que podem fornecer filmes que variam de isolantes a semicondutores e metais. Os filmes podem servir a papéis igualmente diversos, que variam de dielétricos intercamadas a interconexões.
Flexibilidade
Flexibilidade, a gama de capacidades que um sistema possui, pode ser um fator significativo na tomada de decisão sobre qual tipo de sistema de deposição adquirir. Isso é mais verdadeiro para ambientes de P&D do que para aplicações industriais, onde soluções específicas são frequentemente preferidas. Compreender os materiais que podem ser depositados, tamanhos de substrato, faixas de temperatura, fluxo de íons, taxas de deposição, frequências, ponto final e regime de operação de pressão são apenas algumas das considerações. A flexibilidade também é uma qualidade do sistema que permite planejar o futuro. Nas mudanças de prioridades de P&D, é útil ter um sistema que possa lidar com essas mudanças. Acima dessas considerações está o orçamento. Dependendo do tipo de opções de tecnologia, os preços dos sistemas podem variar significativamente.
Relatório de teste para o modelo de revestidor VPI:SD-900M
Imagem do Lado Esquerdo
Temperatura do processo
As propriedades do filme são fortemente influenciadas pela temperatura do processo. No entanto, o aplicativo pode impor limites na temperatura que pode ser usada. Por exemplo, o interesse recente em eletrônicos flexíveis, que frequentemente utilizam substratos poliméricos, é limitado pelo ponto de fusão ou temperatura de refluxo desses polímeros. Alguns semicondutores compostos são limitados por contatos ôhmicos que se degradam em temperaturas mais altas. As várias tecnologias de deposição operam melhor em faixas de temperatura limitadas.
