ความสม่ำเสมอของการสะสมความหนา
บทนำ
การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอริงถูกนำไปใช้อย่างกว้างขวางในการทับถมพื้นที่ขนาดใหญ่ และความหนาสม่ำเสมอของฟิล์มบาง อัตราการสะสม อัตราส่วนการใช้ประโยชน์ของวัสดุเป้าหมาย และปัญหาอื่น ๆ ในอุตสาหกรรมการเคลือบได้รับความสนใจอย่างมาก
ไม่ว่าจะเป็นการเคลือบชิปเซมิคอนดักเตอร์ด้วยฟิล์มบางป้องกันหรือการเคลือบป้องกันแสงสะท้อนกับเลนส์แว่นตา วิศวกรกระบวนการจะต้องบรรลุข้อกำหนดความหนาบางอย่างเพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพ ความสำคัญเท่าเทียมกันกับความหนาของฟิล์มคือความสม่ำเสมอของความหนา
ปัจจัยที่กำหนดประสิทธิภาพการสะสม
การทับถมเป็นกระบวนการที่ใช้ในการเคลือบวัสดุ (หรือฟิล์ม) บาง ๆ ลงบนพื้นผิว เป็นวิธีปฏิบัติทั่วไปในอุตสาหกรรมต่าง ๆ เช่น เซมิคอนดักเตอร์และนาโนเทคโนโลยี การทับถมของฟิล์มบางสามารถทำได้ด้วยเทคโนโลยีที่หลากหลายที่สามารถให้ฟิล์มตั้งแต่ฉนวน สารกึ่งตัวนำ ไปจนถึงโลหะ ภาพยนตร์เรื่องนี้สามารถทำหน้าที่ได้หลากหลายเท่าๆ กัน ซึ่งมีตั้งแต่ไดอิเล็กตริกระหว่างเลเยอร์ไปจนถึงการเชื่อมต่อระหว่างกัน