ความสม่ำเสมอของการสะสมความหนา
บทนำ
การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอริงถูกนำไปใช้อย่างกว้างขวางในการทับถมพื้นที่ขนาดใหญ่ และความหนาสม่ำเสมอของฟิล์มบาง อัตราการสะสม อัตราส่วนการใช้ประโยชน์ของวัสดุเป้าหมาย และปัญหาอื่น ๆ ในอุตสาหกรรมการเคลือบได้รับความสนใจอย่างมาก
ไม่ว่าจะเป็นการเคลือบชิปเซมิคอนดักเตอร์ด้วยฟิล์มบางป้องกันหรือการเคลือบป้องกันแสงสะท้อนกับเลนส์แว่นตา วิศวกรกระบวนการจะต้องบรรลุข้อกำหนดความหนาบางอย่างเพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพ ความสำคัญเท่าเทียมกันกับความหนาของฟิล์มคือความสม่ำเสมอของความหนา
ปัจจัยที่กำหนดประสิทธิภาพการสะสม
การทับถมเป็นกระบวนการที่ใช้ในการเคลือบวัสดุ (หรือฟิล์ม) บาง ๆ ลงบนพื้นผิว เป็นวิธีปฏิบัติทั่วไปในอุตสาหกรรมต่าง ๆ เช่น เซมิคอนดักเตอร์และนาโนเทคโนโลยี การทับถมของฟิล์มบางสามารถทำได้ด้วยเทคโนโลยีที่หลากหลายที่สามารถให้ฟิล์มตั้งแต่ฉนวน สารกึ่งตัวนำ ไปจนถึงโลหะ ภาพยนตร์เรื่องนี้สามารถทำหน้าที่ได้หลากหลายเท่าๆ กัน ซึ่งมีตั้งแต่ไดอิเล็กตริกระหว่างเลเยอร์ไปจนถึงการเชื่อมต่อระหว่างกัน
ความยืดหยุ่น
ความยืดหยุ่น ขอบเขตของความสามารถที่ระบบมี อาจเป็นปัจจัยสำคัญในการตัดสินใจว่าจะจัดหาระบบการสะสมประเภทใด นี่เป็นความจริงสำหรับสภาพแวดล้อม R&D มากกว่าการใช้งานในอุตสาหกรรมซึ่งมักต้องการโซลูชันเฉพาะ การทำความเข้าใจเกี่ยวกับวัสดุที่สามารถเคลือบได้ ขนาดวัสดุพิมพ์ ช่วงอุณหภูมิ ไอออนฟลักซ์ อัตราการสะสมตัว ความถี่ จุดสิ้นสุด และระบบการทำงานของแรงดันเป็นเพียงส่วนหนึ่งของข้อควรพิจารณา ความยืดหยุ่นยังเป็นคุณภาพของระบบที่ช่วยในการวางแผนสำหรับอนาคต ในการเปลี่ยนแปลงลำดับความสำคัญของ R&D และการมีระบบที่สามารถจัดการกับการเปลี่ยนแปลงเหล่านั้นได้นั้นมีประโยชน์ ชั้นบนสุดของการพิจารณาเหล่านี้คืองบประมาณ ระบบอาจมีราคาแตกต่างกันอย่างมาก ทั้งนี้ขึ้นอยู่กับประเภทของตัวเลือกเทคโนโลยี
รายงานผลการทดสอบสำหรับเครื่องเคลือบ VPI รุ่น:SD-900M
ภาพด้านซ้าย