Kalınlık Biriktirme Üniformite
giriiş
Magnetron püskürtme kaplama, geniş alan biriktirmede yaygın olarak uygulanır ve ince film kalınlığı tekdüzeliği, biriktirme oranı, hedef malzemenin kullanım oranı ve kaplama endüstrisindeki diğer problemlere büyük önem verilir.
İster yarı iletken bir çipi koruyucu bir ince filmle kaplayın, ister bir gözlük camına yansıma önleyici kaplama uygulayın, proses mühendislerinin performans gereksinimlerini karşılamak için belirli kalınlık özelliklerine ulaşması gerekir. Film kalınlığı kadar eşit derecede önemli olan, kalınlığın homojenliğidir.
Biriktirme Performansını Belirleyen Faktörler
İnce malzeme katmanlarını (veya filmi) bir substrat üzerine biriktirmek için kullanılan bir işlem olan biriktirme, yarı iletkenler ve nanoteknoloji gibi endüstrilerde yaygın bir uygulamadır. İnce film biriktirme, yalıtkanlardan yarı iletkenlere ve metallere kadar çeşitli filmler sağlayabilen çeşitli teknolojilerle elde edilebilir. Filmler, ara katman dielektriklerinden ara bağlantılara kadar uzanan eşit derecede çeşitli rollere hizmet edebilir.
Esneklik
Bir sistemin sahip olduğu yetenekler aralığı olan esneklik, hangi tür biriktirme sisteminin elde edileceğine karar vermede önemli bir faktör olabilir. Bu, belirli çözümlerin sıklıkla tercih edildiği endüstriyel uygulamalardan ziyade Ar-Ge ortamları için daha doğrudur. Biriktirilebilecek malzemeleri, substrat boyutlarını, sıcaklık aralıklarını, iyon akısını, biriktirme oranlarını, frekansları, son noktayı ve basınç çalışma rejimini anlamak, dikkate alınması gereken hususlardan sadece birkaçıdır. Esneklik aynı zamanda gelecek için planlamaya olanak sağlayan bir sistem kalitesidir. Ar-Ge'de öncelikler değişir ve bu değişiklikleri kaldırabilecek bir sisteme sahip olmakta fayda vardır. Bu değerlendirmelerin üzerine katmanlı bütçe gelir. Teknoloji seçeneklerinin türüne bağlı olarak, sistemlerin fiyatı önemli ölçüde değişebilir.
VPI kaplayıcı Modeli için Test Raporu:SD-900M
Sol Yan Resim
Results & Conclusions
Shows the result of the X-ray diffraction of the Ga2O3 films growth with various O2 flow rates. The diffraction peaks located at 29.7°, 37.6°, and 58.4° originate from the 400, 402, and 603 of the β-Ga2O3, respectively. For the sample without the O2 flow rate, 400, 402, and 603 of the β-Ga2O3 diffraction peak coexisted; this suggests that the sample was polycrystalline. With the O2 flow rate increased from 0 to 4 sccm, the diffraction peak intensity of the 400 β-Ga2O3 decreased, while the intensity of both the 402 and 603 of β-Ga2O3 diffraction peak increased. Both of these two diffractions belong to the 201 plane family of the monoclinic Ga2O3. The above result illustrates that highly 201-textured β-Ga2O3 samples have been prepared and the orientation of crystal is gradually enhanced when oxygen flow increased. Furthermore, the full width at half maximum (FWHM) values of the 402 β-Ga2O3 peaks are 1.00°, 1.10°, 1.06°, and 0.96° for samples with the O2 flow rate increased from 0 to 4 sccm, respectively. The FWHM value is dependent on the O2 flow rate, and the results suggest a higher O2 flow rate results in improved crystal quality. The minimal FWHM is obtained at 4 sccm of the O2 flow rate, which means the grain size is the largest. The combined results of the XRD peak intensity and the FWHM value of the samples show that higher O2 flow rates lead to better quality.
In summary, in terms of the effect of oxygen flow on the structure, optical l properties of the Ga2O3 films have been investigated by XRD, EDX, AFM, transmission spectra, and PL spectra. With the increase in the oxygen flow rate, both the crystal quality and luminescence intensity of the sample first decreased and then enhanced. All these observations suggested that the reduction in the oxygen defect density is responsible for the improvement in the crystal quality and emission intensity of the material, however, there have been no reports about O2 flow rate on the properties of the Ga2O3 growth by RF magnetron sputtering. Our results were similar to those obtained by other techniques and the specific control of various experimental operating parameters. Vu found that the performance of β-Ga2O3-based photodetectors with a higher oxygen partial are better than those prepared at lower oxygen pressures. Wang et al. studied the influence of oxygen flow ratio on the performance of Sn-doped Ga2O3 films by RF magnetron sputtering; they found the sample with higher oxygen flow ratio displays an enhanced performance. Shen’s study revealed oxygen annealing will enhance the performance of β-Ga2O3 solar-blind photodetectors grown by ion-cutting process. Our results demonstrated that high-quality gallium oxide materials can be obtained by adjusting the oxygen flow rate.